小马大车 只须中国研发出EUV光刻机，芯片禁令成废纸，芯片干戈透顶终了？

人所共知，当今好意思国一直在打压中国的芯片产业，从逻辑芯片到NAND、DRAM存储芯片小马大车，再到AI芯片等等。

好意思国为止先进的AI芯片，先进的半导体勾引，以及一些先进的软件、工夫等参加中国阛阓。在好意思国看来，只须堵住这些勾引、工夫、软件，中国就不行能用手搓出芯片来。

而其中，最最环节的勾引，便是EUV光刻机。

因为当今悉数芯片的大限制分娩工夫，便是光刻工艺，光刻机必不行少。且基于面前的工夫工艺进程，制造7nm以下的芯片，就必须用到EUV光刻机。

而众人独一ASML一家企业，概况制造EUV光刻机，是以好意思国一直不允许ASML将EUV光刻机卖给中国。

致使不准EUV光刻机，以任何样子参加中国，哪怕是其它国度的芯片厂，在中国成立的芯片制造工场，也不允许入口EUV光刻机，信得过的贯注遵从。

说真话，在面前的工夫条目之下，好意思国堵EUV光刻机，确乎是最佳的主义，因为只须卡住EUV，参加7nm以下就别思了，莫得其它任何捷径可走，也不存在弯说念超车。

然则，在这么顶点的情况之下，也让咱们看到一个但愿，那便是只须咱们研发出EUV光刻机，芯片禁令成废纸，芯片干戈透顶终了。

因为一朝咱们领有了EUV光刻机，那么就不错参加7nm以下了，比如5nm、3nm等，诚然照旧需要其它勾引的合作，但其它勾引的通用性更强少量，可替代性也更强，独一EUV光刻机无可替代。

是以只关节有EUV光刻机，禁令就没有益旨了，不依赖入口这些先进勾引，咱们就概况分娩出7nm以下的芯片，芯片干戈就会终了。

那么咱们离EUV光刻机还有多远？

名义上来看，还有两步，因为咱们还是领有了DUV光刻机，进一步便是浸润式DUV光刻机，再进一步便是EUV光刻机。

但在这两步背后，可能是巨额步，因为EUV确乎复杂，瓜葛到的供应链、元件、工夫相配多多且杂，但按照ASML的揣测，要是好意思国一直卡住，也许中国几年之内就不错研发出来。

近日，在“2024黑龙江省高校和科研院所员工科技立异效果滚动大赛决赛”上小马大车，哈工大的研发团队的“放电等离子体极紫外（EUV）光刻光源”现象取得大赛一等奖，表现咱们在EUV光源上，其实还是有很深的积攒了。